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更新于 11月25日

光學設計師(曝光系統(tǒng))

2-3萬·14薪
  • 北京通州區(qū)
  • 3-5年
  • 碩士
  • 全職
  • 招1人

職位描述

鏡頭光學儀器電子/半導體/集成電路專用設備制造
崗位職責
1、負責光學系統(tǒng)的研發(fā)和設計
2、對光學性能參數(shù)進行優(yōu)化及公差仿真
3、對光學系統(tǒng)部件進行選型和驗證
4、對系統(tǒng)光學成像質量進行仿真建模
5、搭建光學檢測平臺對各子系統(tǒng)模組進行系統(tǒng)測試
6、撰寫相關技術文檔

任職要求:
1、 光學工程,精密儀器等相關專業(yè)等理工科相關專業(yè),碩士及以上學歷; 3年以上光學系統(tǒng)設計、開發(fā)、集成經驗;
2、 熟悉以下系統(tǒng)中的任一:成像系統(tǒng)設計,照明系統(tǒng)光學設計,光學算法開發(fā);
3、精通Zemax、Codev光學設計,設計過大尺寸多透鏡組等復雜成像系統(tǒng),能承受高強度工作壓力,具有宏語言二次開發(fā)能力優(yōu)先; 具備DOE、ROE、變焦系統(tǒng)等相關設計人員優(yōu)先;
4、熟悉光學鏡片加工工藝,熟悉光學調試和校準方法
5、在復雜新型光學系統(tǒng)研究與開發(fā)方面具有豐富經驗者優(yōu)先。

工作地點

北京通州區(qū)cetc45所

職位發(fā)布者

張立華/人事經理

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公司Logo中國電子科技集團公司第四十五研究所
中國電子科技集團公司第四十五研究所組建于1958年,隸屬于中國電子科技集團公司,是專業(yè)致力于電子元器件關鍵工藝技術、設備整機系統(tǒng)以及設備應用工藝研究、開發(fā)和生產制造的中央在京科研事業(yè)單位。2013年中國電子科技集團公司2所、45所和48所整合成立中電科電子裝備集團有限公司。四十五所在CMP設備、濕化學處理設備、光刻設備、電子圖形印刷設備、材料加工設備和先進封裝設備等領域具有較強的優(yōu)勢。為軍工電子元器件、微機電系統(tǒng)、微納米制造以及電子材料加工等領域提供專用設備和技術支撐,是中國電子裝備技術協(xié)會理事長單位。作為國有重點骨干企業(yè)、大國重器,中國電子科技集團公司位列世界五百強,2015年中電科電子裝備集團有限公司銷售收入超百億,加入中國電科百億俱樂部。
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