崗位概述
負責光刻膠涂布、顯影、曝光等黃光工藝的研發(fā)與優(yōu)化,支持半導體等領域技術的創(chuàng)新與應用。
核心職責
- 開展光刻膠材料、涂膠工藝、曝光參數(shù)等實驗研究與技術開發(fā)。
- 優(yōu)化光刻工藝流程,提升圖形分辨率、均勻性與缺陷控制水平。
- 參與光刻設備評估與工藝整合,支持新產品試制與良率提升。
- 撰寫工藝文檔、實驗報告與技術專利。
任職要求
- 碩士及以上學歷,微電子、化學、材料、光電、高分子等相關專業(yè)。
- 了解光刻工藝基本原理,有涂膠、曝光、顯影等實驗經驗者優(yōu)先。
- 具備良好的實驗設計與數(shù)據分析能力。
- 責任心強,具備良好的團隊協(xié)作與溝通能力。