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更新于 10月23日
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工藝整合工程師

2-4萬
  • 天津濱海新區(qū)
  • 1-3年
  • 碩士
  • 全職
  • 招1人

職位描述

光刻工藝芯片光電子VIACONTACT電子/半導體/集成電路
崗位職責：
1.高深寬比通孔技術(shù)開發(fā)：

1)主導40nm及以下節(jié)點的高深寬比的Contact/Via/Hole工藝整合研發(fā)；

2)優(yōu)化光刻-刻蝕-填充-平坦化全流程工藝，解決關(guān)鍵缺陷（孔洞、縫隙、過度侵蝕等）。

2.工藝窗口提升：

1)設(shè)計DOE實驗，協(xié)同OPC、光刻、刻蝕、薄膜、CMP團隊，提升高深寬比通孔的均勻性、良率及可靠性。

3.跨部門技術(shù)整合：

1)與器件研發(fā)團隊合作，優(yōu)化Contact/Via/Hole結(jié)構(gòu)，從而滿足器件性能指標；

2)協(xié)同設(shè)計部門制定Design Rules。

4.量產(chǎn)轉(zhuǎn)移支持：主導新工藝從研發(fā)線向量產(chǎn)線的轉(zhuǎn)移，建立管控標準（SPC）和故障分析流程。

任職要求：

1.學歷：碩士及以上學歷，微電子、光學工程、物理、材料等相關(guān)專業(yè)。

2.工作經(jīng)驗：

1)5年以上半導體工藝整合/研發(fā)經(jīng)驗，必須具備12英寸晶圓廠40nm及以下節(jié)點實戰(zhàn)經(jīng)驗；

2)至少主導過Contact/Via/Hole模塊中任一環(huán)節(jié)的工藝開發(fā)（OPC、光刻、刻蝕、ALD填充、CMP）；

3)熟練使用檢測分析工具：SEM/TEM剖面分析、EDX成分檢測、缺陷掃（KLA）等；

4)有OPC/DUV immersion工藝經(jīng)驗者優(yōu)先考慮。

3.具備能力：

1)具備DOE設(shè)計及數(shù)據(jù)分析能力（JMP/JMP Pro優(yōu)先）；

2)出色的跨部門協(xié)作與風險預判能力，能主導技術(shù)難題攻關(guān)。

工作地點

天津濱海新區(qū)泰達服務外包產(chǎn)業(yè)園6號樓

職位發(fā)布者

代女士/招聘主管

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