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1.負(fù)責(zé)光刻工藝的日常維護(hù)與優(yōu)化，包括勻膠、曝光、顯影的關(guān)鍵步驟，確保工藝穩(wěn)定性和良率達(dá)標(biāo)；
2.根據(jù)研發(fā)或生產(chǎn)需求，完成新工藝的開發(fā)與導(dǎo)入，提升光刻分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度等關(guān)鍵指標(biāo)；
3.處理光刻過程中的異常問題（如缺陷、線寬偏差等），進(jìn)行原因分析并制定改進(jìn)方案；
4.協(xié)助光刻設(shè)備的定期維護(hù)、校準(zhǔn)和故障排查，保障設(shè)備高效運(yùn)行；
5.編寫工藝操作規(guī)范、技術(shù)報(bào)告及設(shè)備操作SOP文件；
6.與團(tuán)隊(duì)其他工藝人員協(xié)同完成工藝任務(wù)，推動(dòng)整體工藝整合與優(yōu)化。

任職條件

1.?？萍耙陨蠈W(xué)歷，微電子、物理學(xué)、光學(xué)工程、材料工程、化學(xué)等相關(guān)專業(yè)；
2.具有2年以上半導(dǎo)體光刻工藝經(jīng)驗(yàn)，熟悉微納加工工藝流程，具備激光直寫光刻工藝經(jīng)驗(yàn)，熟悉紫外曝光機(jī)、步進(jìn)式光刻機(jī)或納米壓印設(shè)備操作，熟悉大口徑激光直寫光刻設(shè)備操作優(yōu)先；
3.熟悉光刻工藝中光刻膠特性、折射率匹配、光學(xué)臨近效應(yīng)校正（OPC）等關(guān)鍵技術(shù)；
4.具備良好的溝通協(xié)調(diào)能力和團(tuán)隊(duì)合作精神，能適應(yīng)潔凈室工作環(huán)境；
5.品行端正，工作嚴(yán)謹(jǐn)，能承擔(dān)較大工作壓力、有強(qiáng)烈的事業(yè)心和責(zé)任感。
備注：錄用后入職光升科技（四川）有限公司。