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職責描述：
1. 工藝開發(fā)與優(yōu)化：參與光刻工藝的開發(fā)和優(yōu)化，以滿足特定產(chǎn)品的設(shè)計規(guī)則和性能要求。
2. 設(shè)備操作與維護：操作光刻機，確保設(shè)備按照既定參數(shù)穩(wěn)定運行，并進行日常維護。
3. 參數(shù)調(diào)整：根據(jù)工藝要求調(diào)整曝光劑量、焦距、光強等關(guān)鍵參數(shù)，以獲得更好的分辨率和均勻性。
4. 質(zhì)量控制：監(jiān)控光刻過程的質(zhì)量，包括圖案的尺寸精度、對準精度和缺陷率，確保產(chǎn)品符合質(zhì)量標準。
5. 數(shù)據(jù)分析：收集和分析光刻過程中的數(shù)據(jù)，使用統(tǒng)計過程控制（SPC）等方法來優(yōu)化工藝。
6. 團隊合作：與其他工藝工程師、設(shè)計工程師和跨職能團隊合作，確保產(chǎn)品從設(shè)計到生產(chǎn)的順利轉(zhuǎn)化。
任職要求：
1. 電子科學、微電子、光學、物理、材料等專業(yè)，本科及以上學歷。
2. 兩年以上半導體相關(guān)經(jīng)驗，熟悉光刻工藝，光刻機基本參數(shù)及曝光原理。
3. 熟悉半導體芯片制造工藝，對功率器件、MOS器件、PN結(jié)有一定基礎(chǔ)知識。
4. 熟悉光刻膠、顯影液等基本光刻工藝所需的材料。
5. 英語四級及以上，有一定的英文讀寫能力，熟練掌握office等辦公工具。
6. 優(yōu)秀的學習能力和協(xié)作溝通能力。
7. 具備獨立工作、分析和解決問題的能力。
8. 英語四級及以上，良好的英文讀寫說的能力。
9. 良好的規(guī)劃能力和時間管理能力。
10. 強烈的責任心，良好的職業(yè)道德和保密意識。