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職責(zé)描述：
1. 工藝開發(fā)與優(yōu)化：參與光刻工藝的開發(fā)和優(yōu)化，以滿足特定產(chǎn)品的設(shè)計(jì)規(guī)則和性能要求。
2. 設(shè)備操作與維護(hù)：操作光刻機(jī)，確保設(shè)備按照既定參數(shù)穩(wěn)定運(yùn)行，并進(jìn)行日常維護(hù)。
3. 參數(shù)調(diào)整：根據(jù)工藝要求調(diào)整曝光劑量、焦距、光強(qiáng)等關(guān)鍵參數(shù)，以獲得更好的分辨率和均勻性。
4. 質(zhì)量控制：監(jiān)控光刻過程的質(zhì)量，包括圖案的尺寸精度、對準(zhǔn)精度和缺陷率，確保產(chǎn)品符合質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。
5. 數(shù)據(jù)分析：收集和分析光刻過程中的數(shù)據(jù)，使用統(tǒng)計(jì)過程控制（SPC）等方法來優(yōu)化工藝。
6. 團(tuán)隊(duì)合作：與其他工藝工程師、設(shè)計(jì)工程師和跨職能團(tuán)隊(duì)合作，確保產(chǎn)品從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)的順利轉(zhuǎn)化。
任職要求：
1. 電子科學(xué)、微電子、光學(xué)、物理、材料等專業(yè)，本科及以上學(xué)歷。
2. 兩年以上半導(dǎo)體相關(guān)經(jīng)驗(yàn)，熟悉光刻工藝，光刻機(jī)基本參數(shù)及曝光原理。
3. 熟悉半導(dǎo)體芯片制造工藝，對功率器件、MOS器件、PN結(jié)有一定基礎(chǔ)知識。
4. 熟悉光刻膠、顯影液等基本光刻工藝所需的材料。
5. 英語四級及以上，有一定的英文讀寫能力，熟練掌握office等辦公工具。
6. 優(yōu)秀的學(xué)習(xí)能力和協(xié)作溝通能力。
7. 具備獨(dú)立工作、分析和解決問題的能力。
8. 英語四級及以上，良好的英文讀寫說的能力。
9. 良好的規(guī)劃能力和時間管理能力。
10. 強(qiáng)烈的責(zé)任心，良好的職業(yè)道德和保密意識。